無鉛堿銅光亮劑

一、特點(diǎn)

1. 為電鍍鋅基鑄件時(shí)必備的銅層。由于此光亮氰化銅鍍層平滑、緊密、幼細(xì)，故可增長電鍍氰化銅時(shí)間，使整件鋅基鑄件完全被銅層遮蓋好，以后鍍上酸銅及光亮鎳時(shí)，不致發(fā)生毛病。

2. 電流密度范圍廣闊，沉積速度較快。

3. 可作滾鍍及掛鍍。

4. 雜質(zhì)容忍量高，易于控制。

5. 如鍍件全部為鋼鐵工件時(shí)，氫氧化鈉含量可調(diào)高至10-30克/升。

二、溶液組成及操作條件

氰化亞銅         40-70克/升

氰化鈉           60-100克/升

氫氧化鈉         1-3克/升

酒石酸鉀鈉       10-20克/升

3＃光亮劑        2毫升/升

4＃走位劑        4毫升/升

溫度             45-60ｏC

電流密度         0.5-4安培/平方分米

陽極             無氧電解銅

攪拌             空氣或機(jī)械搖擺

氰化亞銅：游離氰化鈉     鋼鐵件：2-3:1；鋅合金件：3-4:1

三、生產(chǎn)維護(hù)

鍍液中的主要成分要定期分析并調(diào)整至如下范圍:

金屬銅           30-50克/升

游離氰化鈉       15-20克/升

氫氧化鈉         1-3克/升

金屬銅由氰化亞銅補(bǔ)充,同時(shí)應(yīng)加入同樣份量的氰化鈉以保持游離氰化鈉的含量在正常水平.

諾切液的使用可有效地促進(jìn)陽極的溶解及減少氰化鈉用量,除開缸外每天適量的添加有利于鍍層結(jié)晶細(xì)化.諾切液的消耗以帶出為主.

3#高位光亮劑輔助4#提高整體光亮度,消耗量為每1000安培小時(shí)50-100毫升.

4#低位光亮劑幫助中低電流區(qū)鍍層的光亮平整,消耗量為每1000安培小時(shí)250-300毫升.

四、建議

定期的活性炭處理以及除去過量的碳酸鈉對鍍液的長期穩(wěn)定有良好作用.深凹處電鍍時(shí)間過長不光亮，建議添加酒石酸鉀鈉。

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