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大同TH-466中性鍍錫添加劑

大同TH-466中性鍍錫添加劑

  • 所屬分類:大同鍍錫添加劑
  • 瀏覽次數:4229次
  • 發布日期:2022-01-13
  • 產品概述
  • 性能特點
  • 技術參數

H-466中性鍍錫添加劑

 

 

TH-466電鍍工藝

 

 

無鉛化

●中性鍍液

●滾鍍工藝

 

 

簡介

    在電鍍加工小型化的被動組件時,會面臨必須嚴肅對待的問題——電鍍過程中的 ( 鋼珠 )聚結和 ( 產品 ) 粘片現象。粘片和聚結的比率與工件的尺寸和外型相關。越小尺寸和越扁平的工件,粘片的比率越高,這導致產品質量下降和應用面縮小。

    TH-466中性鍍錫添加劑在接近中性的鍍液中影響錫離子的配位,從而解決小工件的粘片現象。專門為小尺寸工件的滾鍍應用設計的,能在非常寬廣的電流密度范圍內獲得平滑均勻的半光澤純錫鍍層。

工藝的特性

可在較寬的電密度范圍內得到良好的鍍層.

能提升電鍍效率,同時減少產品粘片現象和鋼珠的聚結現象.

鍍層具有優異的可焊性,耐熱性和密著性

鍍液的分析、管理容易進行所有的化學組分能夠分析同時不依賴昂貴的分析設備.

  

  

 

操作參數

應用參數

     

     

二價錫Sn2+  ( /  )

12

10 15

導電劑     (毫升/ )

250

20 300

添加劑     (毫升/ )

50

40  60

電流密度   (A/dm2)

0.5

0.1  1.0

鍍液溫度   oC )

24

20  28

pH

3.5

3.0  4.0

陽極

純錫球 ( 99.99% )

攪拌

陰極移動 + 液體劇烈攪動

過濾

連續過濾 每個小時 5循環

( 1 5 微米濾芯 )

 

建浴方法:

所需藥品

體積

二價錫Sn2+

50毫升/ ( 二價錫Sn2+  = 300 g/L )

導電劑

250毫升/  

 

 

添加劑

50毫升/


中性鍍錫添加劑

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